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“Study on metal nitride films using atomic resolution TEM-analyzing the defects in metal nitride films and beyond”

发布者:张灶利发布时间:2017-12-28浏览量:

湖南大学“天马材料研究论坛”第106期

题   目:“Study on metal nitride films using atomic resolution TEM-analyzing the defects in metal nitride films and beyond”
报告人: 张灶利  研究员(奥地利国家科学院Erich-Schimd材料研究所)
地 点:工程实验大楼244多媒体报告厅
时   间:2017年12月28日(周四)下午2:30-3:45
主持人: 陈江华 教授
邀请人: 材料科学与工程学院
承办人: 材料学院“天马材料研究论坛”日常工作小组

 

报告人简介: 1997年获北京科技大学材料物理专业博士学位。1998年9月-2000年9月在中国科学院物理研究所北京电镜中心从事博士后研究。2000至2005年,在德国马克斯普朗克金属研究所从事功能陶瓷的精细显微结构研究。用超高压电镜在世界上首次实现对SrTiO3原子分辨成像,尤其是对晶界上的氧原子及其空位直接观察和研究,此研究成果在Science 杂志上发表,并受到德国马普协会和德国的官方报纸高度评价和报道。在此期间, 获美国陶瓷协会颁发的Edward C. Henry 奖。2008年作为高级研究员到奥地利科学院Erich-Schimd材料研究所工作, 负责和使用先进的球差矫正电镜, 从事结构材料和纳米的界面及缺陷研究,2011 年 10月起担任奥地利科学院终身研究员。
近几年,主要研究钛酸锶功能陶瓷材料原子尺度的结构和性能,氮化硅中晶界非晶薄膜诱发的结构及动力学研究,多层状CIGS太阳能材料的结构和性能,纳米磁性记录材料, 氧化物的界面和磁性能的关系, 最近的工作侧重于用高级的电镜研究金属氮化物薄膜的缺陷及界面结构等等。目前已发表SCI论文100余篇,其中包括Science, Acta Mater., J. Am. Chem. Soc.,Phys. Rev. B论文多篇。

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