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材料微观结构与辐照损伤缺陷

发布者:曹兴忠发布时间:2025-03-15浏览量:

湖南大学“岳麓材料杰出学者论坛”第286

目:材料微观结构与辐照损伤缺陷

报告人曹兴忠 研究员

点:材料科学与工程学院162楼会议室

间:2025317(周一)上午10: 00-11: 00

邀请人:材料科学与工程学院

报告摘要:

正电子湮没谱学技术在研究材料微观缺陷、微观结构方面有着独特的优势,可以获取材料内部微观缺陷的种类与分布的关键信息,在金属、高分子、粉末等材料的空位形成、演化机理以及分布等研究方面独具特色,对研究材料的微观结构、优化材料的工艺和性能等方面有着指导作用。

报告人简介:

曹兴忠,中国科学院高能物理研究所研究员。研究方向包含正电子谱学技术、微观结构缺陷、辐照损伤效应研究等。发表300余篇学术论文,被引用上千次,H因子672023/2024高被引学者,授权30余项发明专利;分别于2005年、2015年两次获得北京市科学技术一等奖;主持或参与了相关研究课题 10 余项:科学院先导,国家自然科学基金重点、面上项目等。目前是核物理学会正电子谱学专业委员会秘书长、核学会辐照效应分会理事。


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